· 返回首頁
· 聯系我們
首 頁
公司介紹
產品展示
新聞動態
技術文章
資料下載
在線留言
聯系我們
那諾中國有限公司
刻蝕系統
RIE反應離子刻蝕系統
ICP及DRIE刻蝕系統
IBE離子束刻蝕系統
RIE-PE刻蝕機
沉積系統
進口光學鍍膜機
TE熱蒸發鍍膜系統
E-Beam電子束蒸發系統
磁控濺射系統
PECVD等離子化學氣相沉積系統
PLD脈沖激光沉積
生長系統
MOCVD設備
ALD原子層沉積系統
MOVPE設備
清洗去膠系統
等離子去膠清洗及灰化系統
單晶圓/掩模版兆聲清洗機
大基片清洗/去膠/濕法刻蝕
MW微波等離子清洗去膠系統
離子束清洗系統
研發用等離子去膠機
熱真空試驗系統
熱真空試驗箱
熱真空環境模擬試驗設備
空間環境模擬試驗設備
熱真空系統
核心組件
Platens樣品臺
等離子體源
首頁
>
產品展示
>
清洗去膠系統
>
MW微波等離子清洗去膠系統
Q240微波等離子去膠清洗機
產品型號:
查看詳細介紹
Q240微波等離子去膠清洗機:Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統,可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統為計算機全自動控制的系統。 典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻蝕工藝的前處理或后處理;MEMS制造中的犧牲層去除。
Q235微波等離子去膠清洗機
產品型號:
查看詳細介紹
Q235微波等離子去膠清洗機:Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統,可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統為計算機全自動控制的系統。 典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻蝕工藝的前處理或后處理;MEMS制造中的犧牲層去除。
Q150微波等離子去膠清洗機
產品型號:
查看詳細介紹
Q150微波等離子去膠清洗機:Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統,可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統為計算機全自動控制的系統。 典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻蝕工藝的前處理或后處理;MEMS制造中的犧牲層去除。
ASTRO96全自動微波等離子清洗系統
產品型號:
查看詳細介紹
ASTRO96全自動微波等離子清洗系統:Alpha等離子系統ASTRO96是一款低壓微波等離子系統,用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的先進芯片封裝清洗,以及倒裝芯片清洗。ASTRO96是全自動等離子系統,待處理的基片通過片匣緩存區載入,清洗完成后放回同一個片匣緩存區。
共 7 條記錄,當前 1 / 2 頁 首頁 上一頁
下一頁
末頁
跳轉到第
頁
那諾中國有限公司是國內專業的MW微波等離子清洗去膠系統廠家,MW微波等離子清洗去膠系統各種型號都有出售,MW微波等離子清洗去膠系統詳細介紹歡迎廣大顧客請進站查詢
公司名稱:那諾中國有限公司 公司地址:上海市虹梅南路126弄翡翠別墅23號 郵政編碼:200237 公司網址:www.gzyctoy.com
網站訪問統計:175108 網站ICP備案號:
GoogleSiteMap