NRE-4000（M）反應離子刻蝕：獨立式RIE系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12”的晶圓片。腔體為超凈設計，并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空

RIE刻蝕機：獨立式RIE系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12”的晶圓片。腔體為超凈設計，并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空

NRE-3000 反應離子刻蝕機：PC控制的RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設計，真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空?？梢栽?0mTorr到8Torr之間的真空下工作。

NRE-3500（A）全自動反應離子刻蝕機：自動上下栽片，PC控制的RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜，13“頂蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.2“觀察.該系統可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設計，真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空?？梢栽?0mTorr到8Torr之間的真空下工作。