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      • 產品名稱:NIE-3000IBE離子束刻蝕

        產品型號:

        產品報價:

        產品特點:NIE-3000IBE離子束刻蝕:是一款手動放片/取片,但工藝過程為全自動計算機控制的臺式離子束刻蝕系統,可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

        NIE-3000IBE離子束刻蝕的詳細資料:

        IBE離子束刻蝕

        NIE-3000IBE離子束刻蝕產品概述:該系統為手動放片取片,但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統,系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為。

        NIE-3000IBE離子束刻蝕產品特點:

        • 低成本
        • 離子束:高達2KV/10mA
        • 離子電流密度100-360uA/cm2
        • 離子束直徑:4",5",6"
        • 兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
        • 極限真空5x10-7Torr
        • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
        • 14"不銹鋼或鋁質腔體
        • 水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
        • 自動上下載片(NIE-3500)
        • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
        • 占地面積30"x30"

        產品應用:

        • 表面處理
        • 離子銑
        • 表面清洗
        • 帶活性氣體的離子束刻蝕:  光柵刻蝕,以及SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕

         

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