NOC-4000進口光學鍍膜機：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統提供先進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統的設計也可以支持其中任一個腔體的單獨使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。

NSC-4000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達到到8“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12” 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，樣品臺通過RF或脈沖DC產生偏壓?？芍С旨訜岷屠鋮s.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，真空可低至10-7 torr。標準配置含1路惰性氣體、3路活性氣體和4個MFC。

NEE-4000（A）全自動電子束蒸發系統：NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，通過主腔放入基片到樣平臺（或夾具）上或從中取出。自動裝/卸載基片可通過第三方的預真空鎖實現。通過PC計算機控制，系統可以提供多電子束源的共蒸發能力，以及對組分或組分梯度進行編程的能力。